光刻工艺专家-Lithography Process Expert(J21464)

1.光刻工艺开发与窗口构建： 主导前段fab后端黄光制程（涵盖浸没式、KrF、i-line光刻）的开发与验证，结合3D堆叠结构需求，制定满足关键尺寸、套刻精度及缺陷控制要求的工艺方案； 2.DOE设计与参数优化： 主导光刻工艺DOE实验设计，系统分析曝光剂量、焦距、掩模对准及显影条件等关键参数对图形质量的影响，确定并固化可量产复现的工艺窗口； 3.异常分析与良率提升： 主导光刻制程中的异常排查与缺陷改善，协同整合团队定位失效根因，推动工艺优化与预防措施落地，持续提升产品良率； 4.设备评估与产能建设： 主导ASML、Canon等浸没式及干法光刻设备的功能评估、厂验收与工艺调试，建立设备验收标准与产能基线，保障产能快速释放与稳定运行； 5.技术沉淀与标准化： 主导光刻工艺参数标准化与操作规范建设，迭代更新标准作业流程与失效经验库，沉淀光刻工艺专长，提升团队整体技术能力。 【任职要求】 1.…… 完整岗位描述与官方投递入口,请登录后在岗位详情页查看。

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