工艺/产品技术支持

1. 主导设备的开发、硬件适配优化及参数精调；针对光刻胶涂布、显影、前后烘、冷却及晶圆传输等核心工序开发并迭代工艺方案，制定转速、时长、温控曲线、药液供排流量/压力等关键参数，搭建稳定可靠的工艺平台，保障膜厚均匀性、极低缺陷率，且完全符合SEMI及晶圆厂制造标准。 2. 与机械、电气、软硬件工程团队深度协同，将前道光刻工艺需求转化为可落地的设备硬件设计指标；针对旋涂杯、显影喷淋模组、冷热盘单元、晶圆传输臂、药液供排回收系统等核心硬件模块提供专业技术支持，优化工艺与硬件的适配性，提升设备硬件稳定性及工艺重复性。 3. 主导涂胶显影设备硬件关联缺陷分析与故障排查，覆盖膜厚不均、图形畸变、颗粒污染、药液残留及硬件导致的工艺异常；联动量测与失效分析团队开展深度根因定位，推动硬件整改、参数优化及结构改良，持续提升工艺良率。 4. 有能力对涂胶显影设备核心硬件及配套化工材料评估与认证；制定符合安规及环…… 完整岗位描述与官方投递入口,请登录后在岗位详情页查看。

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