光刻工艺研发专家 TD Lithography Process Expert(J21183)

1.光刻工艺研究与节点开发： 主导光刻工艺（涵盖DUV光刻、多重曝光、光刻胶优化、套刻精度控制）的研发，推进工艺节点开发并达成技术目标； 2.新材料、新设备与新工艺探索： 评估并引入新材料、新设备和新工艺，持续提升光刻工艺的分辨率、良率和工艺稳定性； 3.光刻仿真与数据分析： 进行光刻仿真（如OPC、SMO），使用JMP、MATLAB或Python等工具完成实验数据分析，优化工艺参数窗口； 4.研发项目管理与技术路线制定： 主导光刻工艺研发项目，制定技术路线图，确保关键节点按期交付并达成项目目标； 5.跨部门协作与技术量产转移： 与设备、整合、制程、良率等团队紧密协作，推动光刻技术从研发向量产的平稳落地； 6.缺陷分析与技术方案产出： 深入分析光刻制程中的缺陷、套刻误差及CD均匀性问题，提出并验证系统性技术解决方案； 7.实验设计（DOE）方法建立： 建立并推广DOE方法论，系统提升工艺窗…… 完整岗位描述与官方投递入口,请登录后在岗位详情页查看。

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