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D&E - 光学邻近效应校正软件工程师 - 新竹

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🎯 社招 发布于 2026-06-26 来源:外企官网
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岗位描述(节选)

岗位使命 为大规模并行光刻计算系统开发算法。 与客户深度合作,开发并排查 OPC 配方问题。 对客户的紧急请求提供快速响应。 岗位详情 为大规模并行光刻计算系统编写程序(C/C++、LUA)。 在受限环境和有限时间内调试程序。 对客户研发人员进行培训和沟通。 该职位需要接触受控技术,其定义见美国出口管理条例(15 C.F.R. § 730 及以下)。合格候选人必须在开始工作前获得接触此类受控技术的合法授权。业务需求可能要求 ASML 优先推进可立即获得受控技术接触资格的候选人。 包容与多元 ASML 是一家机会均等雇主,重视并尊重多元化和包容性员工队伍的重要性。公司的政策是在所有职位中招聘、雇用、培训和晋升人员时,不考虑种族、肤色、宗教、性别、年龄、国籍、退伍军人身份、残疾、性取向或性别认同。我们认识到,包容与多元是我们公司成功的驱动力。 需要了解更多关于申请 ASML 职位的信息?请阅读…… 完整岗位描述与官方投递入口,请登录后在岗位详情页查看。

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